2010/03/31: Nina Hollensteiner und Helena Wittmann erhalten Stipendium der Studienstiftung des deutschen Volkes
Die HFBK-Studentinnen Nina Hollensteiner (Studienschwerpunkt Bildhauerei) und Helena Wittmann (Studienschwerpunkt Film) gehören zu den neuen Stipendiaten der Studienstiftung des deutschen Volkes. Im Rahmen des diesjährigen Auswahlverfahrens der Studienstiftung des deutschen Volkes für Studierende der Fächer Bildende Kunst, Design/Gestaltung und Film hatten sich 160 Studentinnen und Studenten aus ganz Deutschland beworben. 48 Studierende wurden neu in die Förderung aufgenommen.
Die jungen Künstler, Designer und Filmer mussten sich zunächst zu Beginn des Wintersemesters einer hochschulinternen Vorauswahl ihrer Hochschulen stellen. Je nach Größe haben die Kunsthochschulen die Möglichkeit, bis zu fünf besonders begabte Studierende zu nominieren. Im Februar und März entschieden die unabhängigen Fachkommissionen auf den drei Auswahlseminaren über die Aufnahmen der Bewerber. Auf den beiden Seminaren für den Bereich Design in Köln und Berlin und für den Bereich Kunst an der gastgebenden Kunsthochschule HfG Offenbach hatten die Kandidatinnen und Kandidaten die Gelegenheit, ihre Arbeiten zu präsentieren.
Von den 48 neuen Stipendiaten wurden 21 in die Künstlerförderung und 27 in die Designförderung der Studienstiftung aufgenommen. Neben den 20 Kunsthochschulen konnten im Bereich Design auch rund 40 Fachhochschulen ihre Kandidaten nominieren. Unter den neuen Design-Stipendiaten studieren 17 an einer Fachhochschule. Insgesamt fördert die Studienstiftung zurzeit mehr als 180 Kunst- und Designstudierende von insgesamt rund 11.000 Stipendiaten.